第91章 3纳米光刻机
陆远说‘会认真考虑’不是拒绝的意思。
他对左征的印象不错,没理由拒绝这顺手而为的事情。
他没有当场答应,主要是他最近很忙。
忙什么?
当然是3纳米光刻机的研发和工厂的建设了。
是的。
有了陆远这个‘超精密零件’供应商,已经吃透了7纳米光刻机原理的袁黎光袁老和他的团队,很快就完成了5纳米光刻机的研发。
可是这条技术路线也走到了头。
因为用同样的技术制造3纳米光刻机,对零配件的精度要求呈几何倍数增长,多处关键节点更是达到了零误差的要求。
这样的需求对于现在的陆远来说,一时也无法满足。
恩!在他的产线完工前,确实不好满足。
其实芯片生产的三大壁垒设计、晶圆、制造中。
设计方面因为为华的存在,我们并不落后。
.当然,取得了一点点优势的诸位并未松懈,还在继续追赶,甚至超越他们。
现在袁老和陆远在做的就是追上世界一流的制造水准。
面临的问题主要集中在以下几点:
1.镜片加工精度要求更高。
2.晶圆表面平整度更高。
3.制造工艺更加复杂。
4.需要曝光光源波长更短。光刻机采用的光源波长越短,制造的精度就越高。
其中第一个问题,陆远费些功夫用系统加持,是可以短时间内解决的,但是想要长效的解决还是要等他的产线完工。
第二个晶圆问题,就不太好解决了,虽然陆远纯手工磨制可以达到需要的表面平整度,但是这么大批量的晶圆,只靠陆远手工制作又不太现实。
陆远的产线一天未完成,这个问题就一天无法解决。
第三个工艺问题,相对来说是最好解决的,但是也需要大量的数据支持。
工艺可不是拍脑子定的,它的每一步都是经过反复推算验证才定下来的。
只有严格执行工艺步骤和注意事项,才能保证成功率。
所以在头两个问题不解决的前提下,是无法得到详实的实验数据的。
这对于解题能力MAX的华夏来说,也是巧妇难为无米之炊。
至于最后一个曝光光源波长更短,这个纯技术问题,是最让人头疼的问题。
现在的主流解决办法是:
采用更短的光源波长,例如采用X射线或电子束等光源,同时采用更先进的制造工艺和材料,例如采用高精度的光学元件和超光滑表面加工技术等。
此外,光刻机制造波长更短还可以采用多重曝光技术,即通过多次曝光将更长的波长分成更短的波长,从而制造出更小的芯片。
在制造波长更短的光刻机方面,多重曝光技术具有重要意义。
例如,使用193nm的DUV光刻机进行多重曝光可以生成13.5nm的芯片制程,而使用EUV光刻机进行多重曝光可以生成7nm的芯片制程。
中芯制造的5nm芯片制程,就是通过魔改EUV达成的。
这原理说起来不难,但是实际操作起来却难如登月。
要知道所谓的多重曝光技术,就是在短短的5米距离内,对同一晶圆进行多次曝光,以达到将不同的图案叠加在一起,从而制造出更小芯片的效果。
光速跑5米的时间是无限趋近于0的,在这么短的时间内曝光。
算法和软件技术的设计不是一般的复杂,其对图像进行处理合成的要求不是一般的高。
在这无限趋近于0的时间内,视觉算法要准确的确定图像的位置、大小和形状,还要精准的调整图像的色彩、亮度和对比度等参数。
因此,这是顶级算法的较量,也是顶级数学家的较量。
华夏一家对抗整个世界的数学家,虽不公平但是来战便是。
中科院的数位国宝级数学家集体出手,算法进度一日千里。
可是我们与世界的算法方面差距,要用光年来计算。
毕竟西方的领先优势早已形成,只是追赶经已经艰难万分了。
更何况是在各种围追堵截的情况下,进行突破了。
这注定是个漫长的攻坚。
对于算法问题陆远是没什么办法的,他的数学水平……说多了都是泪啊!
陆远之所以没考上985、211数学这个‘拦路虎’功不可没。
万幸的是,虽然我们的算法很落后,但是西方诸位这么多年也完全是在原地踏步。
这个你看水果手机愣是在原地等了为华三年,就可见一斑了。
这主要是因为早已完成产业闭环的西方联盟,用这‘遥遥领先’的技术,收割全球的日子过的太舒服了。
一台3纳米光刻机售价30多亿华夏币,还供不应求。
全因几大芯片制造商完全的瓜分了设备制造商的产能。
设备商的预购订单都排到5年以后去了。
这么疯狂定设备的原因,主要是太赚了。
别看设备30多亿,可是只要将设备拉回来,安装调试后正式投产。
只需要短短4个月,就能收回设备成本。
也就是说只要4个月后,挣的每一分钱都是利润。
一套设备最少可以用个十几年,印钱都没这挣钱快啊!
最重要的是,这利润还是从华夏等制造大国吸取来的。
毕竟华夏每年的芯片需求数量都是数以千亿计的。
在芯片进口额方面,更是达到了每年3万亿华夏币以上。
.......
只是他们低估了华夏。
并且在无数像陆远一样人的努力下,正在向更高端的芯片制造发起进攻。
这芯片产业的天,在华夏正式下场后,开始风云变幻。